X射(she)線電鍍(du)(du)層(ceng)檢測(ce)儀(yi)_光譜儀(yi)：Thick800A是(shi)天瑞集多年的(de)經驗，專(zhuan)門(men)研(yan)發用于鍍(du)(du)層(ceng)行業的(de)一款儀(yi)器，可全自動軟件(jian)操作(zuo)，可多點測(ce)試，由軟件(jian)控制儀(yi)器的(de)測(ce)試點，以及移動平臺。是(shi)一款功能強大的(de)儀(yi)器，配上專(zhuan)門(men)為其(qi)開發的(de)軟件(jian)，在鍍(du)(du)層(ceng)行業中可謂(wei)大展(zhan)身手。
工作原理介紹用X射線照射試樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長，同時又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型和能量色散型。 X射線熒光光譜儀特點X射線熒光光譜儀的特征是波長非常短，頻率很高，其波長約為（20～0.06）×10-8厘米之間。因此X射線必定是由于原子在能量相差懸殊的兩個能級之間的躍遷而產生的。所以X射線光譜是原子中zui靠內層的電子躍遷時發出來的，而光學光譜則是外層的電子躍遷時發射出來的。X射線在電場磁場中不偏轉。這說明X射線是不帶電的粒子流，因此能產生干涉、衍射現象。 X射線熒光光譜儀的X射線譜由連續譜和標識譜兩部分組成 ，標識譜重疊在連續譜背景上，連續譜是由于高速電子受靶極阻擋而產生的 軔致輻射，其短波極限λ 0 由加速電壓V決定：λ 0 = hc /( ev )為普朗克常數，e為電子電量，c為真空中的光速。標識譜是由一系列線狀譜組成，它們是因靶元素內層電子的躍遷而產生，每種元素各有一套特定的標識譜，反映了原子殼層結構 。同步輻射源可產生高強度的連續譜X射線，現已成為重要的X射線源。 X射線熒光光譜儀的X射線具有很高的穿透本領，能透過許多對可見光不透明的物質，如墨紙、木料等。這種肉眼看不見的射線可以使很多固體材料發生可見的熒光，使照相底片感光以及空氣電離等效應，波長越短的X射線能量越大，叫做硬X射線，波長長的X射線能量較低，稱為軟X射線。當在真空中，高速運動的電子轟擊金屬靶時，靶就放出X射線，這就是X射線管的結構原理。
無損(sun)天瑞X熒光光譜鍍(du)層膜(mo)厚(hou)檢測儀，天瑞鍍(du)層測厚(hou)儀
黃金(jin)，鉑，銀等(deng)貴(gui)金(jin)屬(shu)和各種首飾(shi)的含(han)量檢測.
金屬鍍(du)層(ceng)的厚度(du)測(ce)量(liang), 電鍍(du)液和鍍(du)層(ceng)含(han)量(liang)的測(ce)定。
主(zhu)要用于(yu)貴(gui)金(jin)屬加(jia)(jia)工(gong)和(he)首(shou)飾(shi)加(jia)(jia)工(gong)行(xing)業(ye)；銀行(xing)，首(shou)飾(shi)銷售和(he)檢測(ce)機構；電鍍行(xing)業(ye)。
X射線電鍍層檢測儀_光譜儀儀器介紹
Thick800A是天(tian)瑞集多年的(de)經驗，專門(men)研發(fa)用(yong)于鍍(du)層(ceng)行業的(de)一款儀器，可全自(zi)動軟(ruan)件操作，可多點(dian)測試(shi)，由軟(ruan)件控制儀器的(de)測試(shi)點(dian)，以及移動平臺。是一款功能強大的(de)儀器，配上專門(men)為其開(kai)發(fa)的(de)軟(ruan)件，在鍍(du)層(ceng)行業中可謂大展(zhan)身(shen)手(shou)。
X射線電鍍層檢測儀_光譜儀性能(neng)特點
滿足各種(zhong)不(bu)同厚度樣品以及(ji)不(bu)規則表面樣品的測(ce)試需求
φ0.1mm的小孔準直器可以(yi)滿(man)足(zu)微小測試點的需(xu)求
高(gao)精度(du)移(yi)動平臺可(ke)定位(wei)測試點，重復定位(wei)精度(du)小于0.005mm
采(cai)用高度定(ding)位激光，可自動定(ding)位測(ce)試高度
定位激(ji)光(guang)確定定位光(guang)斑，確保(bao)測試點與光(guang)斑對齊
鼠標可(ke)控制移動平臺，鼠標點擊的位置(zhi)就是被測點
高分辨率探頭使(shi)分析結果更加精準
良好的(de)射線屏蔽作用(yong)
測試口高度(du)敏感性傳感器保護
技術指標
型號：Thick 800A
元(yuan)素分析(xi)范圍從硫(S)到鈾（U）。
同時可以(yi)分析30種以(yi)上元素，五層鍍層。
分析(xi)含量一(yi)般為ppm到99.9% 。
鍍層(ceng)厚度一般在(zai)50μm以內（每種材料(liao)有所不(bu)同）
任(ren)意多個可選擇的(de)分析和(he)識別模型(xing)。
相互獨立的(de)基體效應(ying)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應范(fan)圍(wei)為(wei)15℃至30℃。
電(dian)源: 交流220V±5V, 建議配(pei)置交流凈化穩壓電(dian)源。
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg
標準配(pei)置
開放式樣(yang)品腔。
精密(mi)二維(wei)(wei)移(yi)動(dong)(dong)樣品平(ping)臺，探測器和X光管上下可動(dong)(dong)，實現三維(wei)(wei)移(yi)動(dong)(dong)。
雙激光定(ding)位裝(zhuang)置。
鉛玻璃屏蔽罩。
Si-Pin探測器。
信號檢測電(dian)子電(dian)路。
高低壓電源。
X光管。
高度(du)傳感器
保護傳感器
計算機(ji)及噴墨打印機(ji)
無損天瑞X熒光光譜鍍層膜厚檢測儀，天瑞鍍層測厚儀
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