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鍍金測金儀 鍍層測試儀 光譜分析儀

鍍金測金儀 鍍層測試儀 光譜分析儀

簡要描述:

鍍金測金儀 鍍層測試儀 光譜分析儀
性(xing)能(neng)優勢:1.微小樣品(pin)檢測:小測量面(mian)積0.03mm²(加長測量時間可(ke)小至0.01mm²)2.變(bian)焦(jiao)裝置算法:可(ke)改變(bian)測量距(ju)離測量凹凸(tu)異形(xing)樣品(pin),變(bian)焦(jiao)距(ju)離可(ke)達0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多(duo)層多(duo)元 素,甚至有(you)同種(zhong)元素在(zai)不同層也(ye)可(ke)測量。 4.*的解(jie)譜技術:減少能(neng)量相近元素的干擾,降低檢出限。 5.高性(xing)能(neng)探測器:S

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分(fen)享到:

鍍金測金儀 鍍層測試儀 光譜分析儀性能優勢:

1.微小(xiao)樣品(pin)檢測:小(xiao)測量(liang)面積0.03mm²(加長(chang)測量(liang)時間可小(xiao)至0.01mm²)

2.變(bian)(bian)焦裝置算法:可(ke)改變(bian)(bian)測量(liang)距(ju)離測量(liang)凹(ao)凸(tu)異(yi)形樣(yang)品,變(bian)(bian)焦距(ju)離可(ke)達0-30mm

3.*的(de)EFP算法:Li(3)-U(92)元素(su)(su)的(de)涂鍍層(ceng),多(duo)層(ceng)多(duo)元 素(su)(su),甚至有同種(zhong)元素(su)(su)在不同層(ceng)也可測量。   

4.*的解譜技(ji)術:減少能(neng)量相近元(yuan)素(su)的干擾,降低檢出(chu)限。   

5.高性能探測(ce)器(qi):SDD硅漂移(yi)窗口面積25mm²探測(ce)器(qi)。   

6.X射線裝置:微焦加強型射線管搭配聚焦裝置。 

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一六儀器(qi)研(yan)制的(de)測厚(hou)儀*的(de)光路交換裝置,讓X射線和可見光攝像(xiang)同(tong)一垂直線,達到(dao)視覺與測試(shi)定位一體,且X光擴(kuo)散(san)度小(xiao);與EFP軟件配合(he)達到(dao)對焦、變焦雙焦功能,實現高低、凹凸不平(ping)各種形(xing)狀樣(yang)品的(de)測試(shi);高集(ji)成的(de)光路交換裝置與接收器(qi)的(de)角度可縮小(xiao)一倍,可以減少弧度傾斜放(fang)樣(yang)帶來的(de)誤差,同(tong)時特征X射線可以穿透測試(shi)更厚(hou)的(de)表層。

 

鍍金測金儀 鍍層測試儀 光譜分析儀*的EFP算法

專業的(de)研發團隊(dui)在(zai)Alpha和Fp法(fa)的(de)基礎上(shang),計算樣(yang)品(pin)中(zhong)每個元(yuan)(yuan)素(su)的(de)一次熒光(guang)、二次熒光(guang)、靶材熒光(guang)、吸收增強效應(ying)、散(san)射背景等(deng)多元(yuan)(yuan)優(you)化迭代開發出EFP核(he)心(xin)算法(fa),結(jie)合(he)*的(de)光(guang)路轉換技術(shu)、變焦結(jie)構設計及(ji)穩定(ding)的(de)多道脈沖(chong)分析采(cai)集(ji)系統,只(zhi)需(xu)要少量(liang)的(de)標樣(yang)來(lai)校正儀器因(yin)子,可測試重復(fu)鍍(du)層、非金屬(shu)、輕金屬(shu)、多層多元(yuan)(yuan)素(su)以(yi)及(ji)有(you)機物層的(de)厚度(du)及(ji)成分含量(liang)。

RoHS檢(jian)測及標定

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